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真空镀膜的常用方法

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真空镀膜的常用方法

发布日期:2018-11-06 作者:宁波真空镀膜 点击:

宁波真空镀膜

真空镀膜的办法许多:
  (1)真空蒸镀:将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室,抽暇后将膜料加热到高温,使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体外表,凝聚而成薄膜。
  (2)阴极溅射镀:将需镀膜的基体放在阴极对面,把慵懒气体(如氩)通入已抽暇的室内,坚持压强约1.33~13.3Pa,然后将阴极接上2000V的直流电源,便激起辉光放电,带正电的氩离子碰击阴极,使其射出原子,溅射出的原子经过慵懒气氛堆积到基体上构成膜。
  (3)化学气相堆积:经过热分化所选定的金属化合物或有机化合物,取得堆积薄膜的进程。
  (4)离子镀:实质上离子镀系真空蒸镀和阴极溅射镀的有机结合,兼有两者的工艺特色。

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